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性能概述

供应商

PARSOL® ZX

氧化锌,三乙氧基辛基硅烷

采用新包膜的UVB过滤剂,广谱的物理防晒剂,光稳定性强,透明度高,适用于敏感性肌肤。
最高限量:
欧盟:25%;中国:25%;美国25%;东盟:25%;日本:无限制;澳洲:25%。

DSM 帝斯

PARSOL® TX

二氧化钛,硅石,聚二甲基硅氧烷

采用新包膜的UVB过滤剂,具有明显改善体内SPF值的效果,减少阳光对皮肤造成的长期有害影响乃至损伤;是PARSOL®1789的光稳定剂且与其配伍性极好。
最高限量:
欧盟:25%;中国:25%;美国25%;东盟:25%;日本:无限制;澳洲:25%。

DSM 帝斯

PARSOL® SLX

聚硅氧烷-15

具有独特的成膜机制的UVB过滤剂,可使防晒剂分散更均匀,可防止头发和皮肤受紫外线损伤;同时保护染色头发,增强头发光泽,减少缠发;保护头发中的氨基酸,防止日常吹风引起的损伤;促进香味留存;累积使用也不会堵塞,是PARSOL®1789的有效光稳定剂。
最高限量:
欧盟:10%;中国:10%;美国:10%;东盟:10%;日本:10%;澳洲:10%

DSM 帝斯

PARSOL® MCX

甲氧基肉桂酸乙基己酯

应用最广的高效油溶性UVB过滤剂,保护皮肤不受UVB损伤,降低阳光对皮肤造成长期有害影响。全球批准使用。
最高限量:
欧盟:10%;中国:10%;美国:7.5%;东盟:10%;日本:20%;

DSM 帝斯

PARSOL® 1789

丁基甲氧基二苯甲酰基甲烷

油溶性,唯一得到全球批准的UVA过滤剂,防止皮肤受UVA(320-400nm)射线损伤,降低在阳光暴露造成的长期有害影响,防止皮肤过早光老化和色素沉积。
最高限量:
欧盟:5%;中国:5%;东盟:5%;日本:10%;澳洲:5%;美国:单独3%,与其他防晒剂合用2-3%

DSM 帝斯

PARSOL® HS

苯基苯并咪唑磺酸

进行适当的中和后,能成为有效的水溶性UVB过滤剂。可与其它紫外线吸收剂一起使用,少量活性成分即可提高SPF值;用于开发有效的防晒霜和防护性日用化妆品制剂。水溶性粉体,需用碱中和,配方保持pH>7.0以上;使用精氨酸中和时,配方保持pH≥6.0。
最高限量(以酸计):
欧盟:8%;中国:8%;美国:4%;东盟:8%;日本:3%。

DSM 帝斯

PARSOL® 340

奥克立林

油溶性高效UVB过滤剂,保护皮肤不受UVB损伤,降低在阳光下暴露对皮肤造成的长期有害影响,是PARSOL®1789的有效光稳定剂,是固体紫外线过滤剂的良好溶剂。
最高限量:
欧盟:10%;中国:10%;美国:10%;东盟:10%;日本:10%。

DSM 帝斯

PARSOL® 5000

4-甲基亚基樟脑

高效油溶性UVB吸收剂,可与其它紫外线吸收剂一起使用,少量活性成分即可提高SPF值,是PARSOL®1789的有效光稳定剂。
最高限量:
欧盟:4%;中国:4%;东盟:4%;澳洲:4%。

DSM 帝斯

PARSOL® EHS

水杨酸乙基己酯

油溶性UVB过滤剂,保护皮肤不受UVB损伤,降低在阳光下暴露对皮肤造成的长期有害影响,是固体紫外线过滤剂的良好溶剂。
最高限量:
欧盟:5%;中国:5%;美国5%;东盟:5%;日本:10%;澳洲:5%。

DSM 帝斯

PARSOL® HMS

莫柳酯

油溶性UVB过滤剂,保护皮肤不受UVB损伤,降低在阳光下暴露对皮肤造成的长期有害影响,是固体紫外线过滤剂的良好溶剂。
最高限量:
欧盟:10%;中国:10%;美国:15%;东盟:10%;日本:10%;澳洲:15%

DSM 帝斯

PARSOL® MAX

亚甲基双-苯并三唑基四甲基丁基

具有最为广谱防护功效的UV过滤剂,能够将对 UVA、UVB的防护作用延伸至蓝光波段,为消费者提供全面的光保护。水分散体系易于使用,与其他UV过滤剂具有良好的相容性。
最高限量:
欧盟:10%;中国:10%;东盟:10%;日本:10%;澳洲:10%;美国:0.3%(可用于护肤和防晒品的非活性成分,但不可用作OTC防晒剂成分)。

DSM 帝斯

Parsol® SHIELD

双-乙基己氧苯酚甲氧苯基三嗪(BEMT)

油溶性的高效广谱UV过滤剂。低使用浓度下就可达到对UVB和UVA波段的高效防护能力。与有机和无机UV过滤剂,特别是PRASOL®1789都具有良好的相容性
最高限量:
欧盟:10%;中国:10%;东盟:10%;日本:3%;澳洲:10%;美国:0.3%(可用于护肤和防晒品的非活性成分,但不可用作OTC防晒剂成分)。

DSM 帝斯

PARSOL® GUARD

奥克立林,胡莫柳酯,丁基甲氧基二苯甲酰基甲烷,生育,向日葵(HELIANTHUS ANNUUS)籽油

合并了得到批准的安全紫外线过滤剂和一种抗氧化剂,防止光照敏感的化妆品制剂因紫外线照射和氧化反应引起的降解。
推荐用量:0.05-0.5%

DSM 帝斯